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在全球技術不斷發展的趨勢下,光電作為通用型技術,廣泛應用于航空航天、半導體、能源、5G、醫療等領域。我國出臺多項政策支持光電技術研發和應用,并推動國際合作和光電產業發展。
在光電技術研究和生產中,涉及頻繁的流體流量控制和計量工作,對準確度和可靠性有較高要求。在測控測量儀器選擇上,光電企業或實驗室會根據工況和需求,提出更嚴謹和專業的品控要求。
近期,精量科技接到國內某光電研究所需求,最終根據解決方案,分多批次采購了定制化的ACU20PCD型號雙閥壓力控制器。
該研究所屬國家級重點研究所,規模較大,研究方向和領域廣泛,在國內光電研究上取得卓越成就,在光電研發和應用方面具有重要的地位和影響力。
精量科技的技術負責人首先和研究所對接人溝通具體工況及技術細節。
在光電相關作業中,涉及的目標腔體由吸盤和光學元件組成。操作者向光學元件內注入氣體氣壓,通過氣壓來影響光學元件形變。
因光學元件薄壁厚度較薄,加之工況需求調整,研究所對氣壓的控制響應時間,即穩壓時間提出了較高要求。
既有的工況中,氣源經過壓力控制器,直接進入目標腔體,穩壓時間(氣控時間)相對較長。
該光電研究所向精量科技技術負責人提出以下需求:
1.縮短氣控時間,提高氣控精度;
2.在氣壓控制上,氣壓范圍要符合工況要求;
3.各項精度符合工況,精確控制薄壁形變;
4.可以提供及時到位的售后咨詢和服務。
基于該光電研究所提供的工況及細節,精量科技的技術負責人提供一套定制化的解決方案: 從氣源到目標控壓腔體之間,除了雙閥壓力控制器外,分別增加一個2L的氣罐和一個電磁閥。
具體過程和效果如下: 在初始狀態下,電磁閥處于關閉狀態。 先通過精量科技ACU20PCD雙閥壓力控制器,給下游的氣罐充氣至6KPa左右,等待預制大腔體壓力穩定后,再將電磁閥打開,給目標控壓腔體充氣。
同時,雙閥控制器將壓力控制設定為5KPa,成功實現100ms內將腔體壓力控制為5KPa。
圖:為某光電研究所提供的解決方案中使用的定制化雙閥壓力控制器
該光電研究所利用精量科技的定制化解決方案,實現了最初的預想,并取得以下收益:
1.氣控時間達到預期要求,氣控精度進一步提升;
2.氣壓范圍等參數符合實際工況,滿足作業中的精密氣控標準;
3.有效提升作業效率和質量;
該光電研究所根據精量科技提供的解決方案,先后分批次采購對應的定制化ACU20PCD雙閥壓力控制器,用于光電項目生產作業中。